-세계 최초 무결점 LS PECVD와 통합된 획기적 기술



[헤럴드경제=이진용 기자]반도체와 디스플레이 및 태양전지 제조장비 전문기업인 주성엔지니어링(대표 황철주ㆍ036930)이 대만 패널 제조업체인 AUO에 차세대 디스플레이 제조를 위한 핵심공정인 산화막 Oxide TFT용 이그조(IGZO) MOCVD<사진>를 세계 최초로 공급한다.

주성엔지니어링이 이번에 산화막 Oxide TFT용 이그조(IGZO) MOCVD 개발, 대만업체에 공급함으로써 미래형 디스플레이 꿈의 실현에 한발 먼저 다가선 것으로 평가된다.

AUO는 지난해 중반부터 주성엔지니어링의 신개념 IGZO MOCVD 기술을 차세대 디스플레이 패널에 시험 적용하는 평가를 시작했으며, 지난 5월 캐나다 밴쿠버에서 열린 국제 정보디스플레이 학회(SID)를 통해 주성의 IGZO MOCVD 방식이 PVD 방식 대비 이동도(Mobility)가 3배 이상 증가하고 전력소모량 또한 20% 이상 저감되는 효과가 있다는 평가 결과를 공식 발표하는 등 주성의 기술적 우위를 이미 인정한바 있다.

특히 이번에 주성이 IGZO MOCVD와 함께 공급하는 LS(Local Space) PECVD는 Defect Zero(무결점)의 혁신적인 미래형 신개념 장비다.

LS(Local Space) PECVD는 플라즈마를 유리 기판과 이격시켜 필요한 부분에만 플라즈마를 발생시킴으로써 기존 PECVD의 단점인 Plasma Damage와 Plasma Arcing에 의해 발생되는 문제를 해결하고 또한 증착 과정에서 발생되는 파티클과 불순물을 제로(Zero) 수준으로 제거할 수 있는 세계 최초의 무결점 장비이다.

또 미래 디스플레이의 핵심기술인 IGZO MOCVD는 기존 LCD 패널 구동소자의 재료인 비결정 실리콘보다 전자의 이동속도를 약 100배 가까이 높이고, 20% 이상 소비전력을 줄일 수 있어 더욱 선명한 고해상도 및 고투명도 구현이 가능하여 차세대 디스플레이인 초고선명(UHD), 투명, 플렉시블 및 OLED 디스플레이 시대의 핵심적인 신기술로 손꼽힌다.

주성의 IGZO 기술은 증착 방식을 CVD 공정으로 개발, 세계 최초ㆍ최고의 투명 Oxide TFT 기술을 구현한 세계 유일의 기술로써 향후 성장 잠재력이 무궁한 미래형 디스플레이까지 안정적으로 적용할 수 있어 장비의 시장 선점을 위한 파급력 또한 상당할 것으로 기대된다.

아울러 OLED, 투명 및 플렉시블 디스플레이 등 차세대 기술대응과, 1초에 480장 이상의 화면을 고속 처리하는 차세대 디스플레이 구현까지 가능한 만큼, 이번 신규 공급을 시작으로 차세대 디스플레이의 세계 시장 확대에 주력한다는 목표다.

주성엔지니어링 관계자는 “현재 세계적으로 차세대 디스플레이 핵심 기술에 대한 경쟁이 치열하게 진행되고 있다”며 “이번 IGZO MOCVD와 LS PECVD의 첫 공급을 발판으로 급변하는 디스플레이 시장에서 가파른 매출성장을 이끌어 낼수 있을 것”이라고 말했다.

▶용어설명=▷IGZO MOCVD 기술이란 기존 LCD 패널 구동소자의 재료인 비결정(amorphous) 실리콘보다 전자 이동 속도를 약 100배 가까이 높여, 차세대 고해상도 및 초고선명 디스플레이 제조를 가능하게 하는 기술이다.

인듐 (In), 갈륨(Ga), 아연(Zn), 옥사이드(Oxide)의 앞 글자만을 따 ‘IGZO’라고 칭하며, 산화물 반도체를 이용해 기존 LCD패널보다 밝고 전력을 덜 사용해 고해상도의 모바일 기기 디스플레이에 적합한 것으로 알려져 있다.

▷LS PECVD는 Local Space Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition의 약자로 주성엔지니어링이 차세대 디스플레이의 초고선명도 및 고해상도 실현을 위해 세계 최초로 개발한 신개념 장비로 증착 공정 중 발생하는 Plasma Damage Zero, Plasma Arcing Zero, Particle & Contamination Zero를 구현할 수 있는 세계 최초ㆍ최고의 기술이다.

jycafe@heraldcorp.com