시안의 신공업개발구 140만㎡ 부지에서 열린 기공식에는 중국정부를 대표한 자오러지(趙樂際) 시안성 서기, 한국정부를 대표한 이규형 주중대사와 지경부 윤상직 차관, 권오현 대표이사 부회장, 장원기 삼성차이나 대표, 전동수 삼성전자 사장, 김종중 삼정전자 사장, 김흥식 삼성반도체유한공사 법인장 등의 삼성전자 경영진이 참석했다.
삼성전자가 해외에 반도체 공장을 짓는 것은 1996년 미국 텍사스주 오스틴에 이어 두번째다. 삼성전자는 시안 반도체 공장 건설을 위해 초기에 23억 달러를 투자했다. 향후에 단계적으로 투자를 늘려 총 70억 달러로 확대할 계획이다. 이는 삼성전자의 역대 중국 투자중 최대 규모다.
시안 라인은 완공 후에 차세대 10나노급 낸드 플래시 생산라인을 갖추게 된다. 공정이 순조롭게 진행될 경우 2014년부터 양산에 돌입할 예정이다.
양산후 공장이 풀 가동될 경우 시안 라인에서는 300㎜ 웨이퍼 기준으로 월 10만 장분의 반도체를 생산하게 된다.
삼성전자의 공장설립과 함께 부품 및 장비 업체 등도 시안에 동반진출할 것으로 보여 현지에서는 고용 창출에 대한 기대가 높다.
현재 160여 개 삼성전자 협력사들이 시안 진출 참여의향을 밝힌 것으로 알려졌다.
시안 반도체 공장은 풀 가동되면 2000명을 고용하게 되는데, 협력업체까지 포함할 경우 직ㆍ간접 고용효과는 총 1만3000명이 될 것으로 예상하고 있다.
시안시도 삼성전자의 투자 유치를 위해 세금 및 토지 혜택과 함께 삼성로를 건설하고 삼성타운 조성을 지원키로 하는 등 상당히 공을 들인 것으로 알려졌다.
삼성전자가 시안에 대규모 투자를 결정한 것은 성장하고 있는 중국의 반도체 시장을 선점하고 현지의 정보통신기술(IT) 기반을 활용하기 위한 차원이다. 기존의 미국의 오스틴 공장에 이어 중국에 생산단지를 건설함으로써 안정적인 글로벌 생산기반을 구축한다는 의미도 있다.
권오현 부회장 기공식 환영사를 통해 “한중 수교 20주년을 맞아 첨단 과학과 교육의 도시인 시안에서 기공식을 갖게 돼 영광”이라며 “삼성전자는 메모리산업에서 세계 1위 자리를 유지해 왔으며 향후에도 ’삼성중국반도체‘를 통해 최고의 제품으로 인류사회에 공헌할 것”이라고 밝혔다.
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