EUV(Extreme Ultra-Violet) 노광 기술의 연도별 출원 건수. [특허청 제공]

[헤럴드경제(대전)= 이권형기자] 불화아르곤 레이저보다 10분의 1 미만의 짧은 파장을 갖는 극자외선을 이용하여 반도체 회로 패턴을 그리는 EUV(Extreme Ultra-Violet) 노광 기술이 최근 급속한 발전을 이루고 있는 것으로 나타났다.

12일 특허청(청장 김용래)의 최근 10년간(2011~2020년), EUV 노광 기술의 특허 출원 분석에 따르면, 2014년 88건을 정점으로 2018년 55건, 2019년 50건 등으로 나타났다. 특히 2019년부터는 내국인의 출원이 외국인의 출원 건수를 앞서게 돼, 국내 기술이 성장기에 접어들고 있는 것으로 분석됐다.

EUV 노광 기술은 다층 미러, 다층 마스크, 펠리클, 광원, 레지스트 등 고도한 기술의 집약체로서, 지난 10여 년간 삼성전자를 비롯한 글로벌 기업들이 기술 선점을 위해 치열한 연구 개발을 해왔으며, 최근 7나노를 넘어서, 5나노 스마트폰용 애플리케이션 프로세서(AP)의 양산에 처음 적용했었다.

기업별로는 칼짜이스(독일) 18%, 삼성전자(한국) 15%, ASML(네덜란드) 11%, 에스엔에스텍(한국) 8%, TSMC(대만) 6%, SK하이닉스 1%로 6대 글로벌 기업이 전체 출원의 59%를 차지하고 있다.

세부 기술별로는 공정기술 32%, 노광 장치 기술 31%, 마스크 28%, 기타 9%로 분포되어 있다. 공정기술 분야에서는 삼성전자 39%, TSMC 15%로 두 기업의 출원이 54%를 차지한다. 마스크 분야에서는 에스엔에스텍 28%, 호야(일본) 15%, 한양대(한국) 10%, 아사히글라스(일본) 10%, 삼성전자 9% 순이다.

특허청의 최미숙 반도체심사과 특허팀장은 “EUV 노광 공정과 마스크 분야에서 우리나라 기업·학계가 선전하고 있으며 4차 산업혁명과 함께 고성능·저전력 반도체 제조를 위해 EUV 노광 기술이 더욱 중요해질 것”이며 “노광 장치 분야에 있어서도 기술 자립을 위해 연구·개발과 함께 이를 보호할 수 있는 강력한 지적재산권 확보가 필요하다”고 말했다.

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